The Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS (JM3) publishes papers on the science, development, and practice of lithographic, fabrication, packaging, and integration technologies necessary to address the needs of the electronics, MEMS, MOEMS, and photonics industries. The wide range of such devices includes biomedical microdevices, microfluidics, sensors and actuators, adaptive optics, and digital micromirrors. The scope is broad to facilitate synergy and interest between the communities served by the journal.
《微纳米光刻机MEMS和MOEMS杂志》（JM3）发表了有关光刻、制造、包装和集成技术的科学、发展和实践的论文，以满足电子、MEMS、MOEMS和光子学行业的需要。这类装置的范围很广，包括生物医学微装置、微流体、传感器和执行器、自适应光学和数字微镜。范围广泛，有助于促进期刊服务的社区之间的协同作用和利益。
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期刊ISSN
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1932-5150 |
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最新的影响因子
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2 |
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最新CiteScore值
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1.21 |
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最新自引率
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14.70% |
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期刊官方网址
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http://www.spie.org/publications/journals/journal-of-micro/nanolithography-mems-and-moems |
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期刊投稿网址
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https://jm3.msubmit.net/cgi-bin/main.plex |
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通讯地址
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SPIE-SOC PHOTOPTICAL INSTRUMENTATION ENGINEERS, 1000 20TH ST, PO BOX 10, BELLINGHAM, USA, WA, 98225 |
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偏重的研究方向（学科）
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ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC-NANOSCIENCE & |
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出版周期
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Quarterly |
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平均审稿速度
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较慢,6-12周 |
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出版年份
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2007 |
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出版国家/地区
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UNITED STATES |
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是否OA
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No |
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SCI期刊coverage
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Science Citation Index Expanded（科学引文索引扩展） |
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NCBI查询
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PubMed Central (PMC)链接 全文检索(pubmed central) |
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最新中科院JCR分区
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大类(学科)
小类(学科)
JCR学科排名
工程技术
ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC(工程学，电气和电子) 3区
MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY(材料科学，跨学科) 3区
NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY(纳米科学和纳米技术) 4区
OPTICS(光学) 3区
179/260
206/285
80/92
62/94
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最新的影响因子
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2 | |||||||
| 最新公布的期刊年发文量 |
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| 总被引频次 | 954 | |||||||
| 特征因子 | 0.001310 | |||||||
| 影响因子趋势图 |
2007年以来影响因子趋势图（整体平稳趋势）
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最新CiteScore值
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1.21
=
引文计数(2018)
文献(2015-2017)
=
449次引用
370篇文献
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| 文献总数（2014-2016） | 370 | ||||||||||
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被引用比率
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55% | ||||||||||
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SJR
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0.379 | ||||||||||
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SNIP
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0.86 | ||||||||||
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CiteScore排名
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| CiteScore趋势图 |
CiteScore趋势图
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| scopus涵盖范围 |
scopus趋势图
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| 期刊名称 | IF值 |
| Journal of Micro-Nanolithography MEMS and MOEMS | 2 |
| 分享者 | 点评内容 |
